The Foundation for Advancement in Conservation (FAIC) is pleased to announce Photomechanical Prints: History, Technology, Aesthetics, and Use. The meeting will be held in Washington, D.C. the week of October 30th – November 3rd, 2023, and will consist of a three-day symposium hosted by the National Gallery of Art flanked by two days of workshops and tours of local collections.

Distinguished specialists will provide lectures focused on contemporary and historic photomechanical print production including aspects of invention, adaptation, materiality, cultural impact, market value, artistic significance, and preservation. Hands-on workshops will allow smaller groups to intensify their study of identification techniques or try their hand at printing processes with the instruction of world-renowned practitioners.

Tours of prominent local collections will allow participants to see a wide range of examples of historic and contemporary prints. The program overall will provide an opportunity for conservators, curators, historians, scientists, collections managers, cataloguers, archivists, librarians, educators, printmakers, artists, and collectors to convene and collaborate while studying all aspects of photomechanical printing. The resulting advancement of our collective understanding of these ubiquitous but under-researched materials will allow for new interpretations and improved approaches to their collection, interpretation, preservation, treatment, and display.

إعلانات إيكروم المبوبة هي خدمة للمؤسسات المهنية في دولها الأعضاء. وتتطرق الإعلانات المبوبة الإعلانات إلى الموضوعات والأحداث المتعلقة بالحفظ في جميع أنحاء العالم. وهذه المعلومات متاحة لجمهور إيكروم لأغراض إعلامية فقط. إن نشر العناصر في الإعلانات المبوبة لا يعني موافقة مركز إيكروم.

تحتفظ إيكروم بالحق في الإشراف على المحتوى المنشور في الإعلانات المبوبة ويجوز لها إزالة أو تحرير أي محتوى لأي سبب أو بدون سبب، بما في ذلك، على سبيل المثال لا الحصر، المحتوى الذي يعتبر خارج النطاق أو غير متسق مع الوضع الحكومي الدولي لمنظمة إيكروم.

For information about ICCROM’s Privacy Policy, please consult the following link